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铌钯

铌钯

密度:8.57 g/cm³ 熔點:2477℃ 熱膨脹系數:7.1×10-6 /K 熱導率:54.1 W/(m·K) 電阻率:13.1×10-8 Ω·m
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産品詳情

铌钯是一種廣泛應用于磁性材料、光學膜、電子器件等領域的重要工業材料。以下是關于铌靶的詳細介紹:


一、基本信息


铌钯材質:高純度Niobium


規格範圍:圓形或方形,厚度1-30mm,直徑≤400mm


表面處理:鏡面、精磨、噴砂等


二、詳細的參數


純度:铌钯通常采用高純度Nb(99%~99.99%)作為材料,确保其在各種工業應用中的穩定性和可靠性。


密度:铌的密度約為8.57g/cm³,因此铌钯具有較高的重量和體積比,便于控制制備過程中的溫度和空氣環境等因素。


彈性模量:針對不同的應用領域,铌钯具有不同彈性模量,通常在105~216GPa之間。


抗拉強度:铌钯的抗拉強度通常在220~360MPa之間,可以滿足大多數工業領域的應用需求。


加工性能:铌钯的加工性能較好,可以通過精密機器加工、鏡面抛光等方法獲得高質量、穩定性能的铌靶材料。


三、物理特性參數


密度:8.57 g/cm³


熔點:2477℃


熱膨脹系數:7.1×10-6 /K


熱導率:54.1 W/(m·K)


電阻率:13.1×10-8 Ω·m


四、功能優勢特點


耐腐蝕性:铌钯具有良好耐腐蝕性能,可以承受酸堿等化學物質的侵蝕,保證了其長期使用的壽命和穩定性。


高熔點:铌的熔點非常高達2477℃,铌靶在高溫環境下仍能保持穩定的性能,使得它具有廣泛的應用領域。


高強度:雖然铌的密度較高,但其強度也相對較高,可以滿足許多領域的應用需求。


高純度:铌钯通常采用高純度Nb(99%~99.99%)作為材料,确保其在工業應用中的穩定性和可靠性。


良好的化學穩定性:铌靶具有良好的化學穩定性,不會和其他材料發生反應,并且在長期使用過程中也不會出現晶界擴散等問題。


五、應用及其他注意事項


應用:铌钯廣泛應用于磁性材料、光學膜、電子器件等領域,如磁随機存儲器、磁存儲傳感器、平面顯示器等。


注意事項:在使用和制備铌靶的過程中,需要注意避免與其他金屬或元素等發生反應,以及注意控制好制備過程的溫度和環境條件等細節問題。


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