铌钯

铌钯是一種廣泛應用于磁性材料、光學膜、電子器件等領域的重要工業材料。以下是關于铌靶的詳細介紹：

一、基本信息

铌钯材質：高純度Niobium

規格範圍：圓形或方形，厚度1-30mm，直徑≤400mm

表面處理：鏡面、精磨、噴砂等

二、詳細的參數

純度：铌钯通常采用高純度Nb（99%~99.99%）作為材料，确保其在各種工業應用中的穩定性和可靠性。

密度：铌的密度約為8.57g/cm³，因此铌钯具有較高的重量和體積比，便于控制制備過程中的溫度和空氣環境等因素。

彈性模量：針對不同的應用領域，铌钯具有不同彈性模量，通常在105~216GPa之間。

抗拉強度：铌钯的抗拉強度通常在220~360MPa之間，可以滿足大多數工業領域的應用需求。

加工性能：铌钯的加工性能較好，可以通過精密機器加工、鏡面抛光等方法獲得高質量、穩定性能的铌靶材料。

三、物理特性參數

密度：8.57 g/cm³

熔點：2477℃

熱膨脹系數：7.1×10-6 /K

熱導率：54.1 W/(m·K)

電阻率：13.1×10-8 Ω·m

四、功能優勢特點

耐腐蝕性：铌钯具有良好耐腐蝕性能，可以承受酸堿等化學物質的侵蝕，保證了其長期使用的壽命和穩定性。

高熔點：铌的熔點非常高達2477℃，铌靶在高溫環境下仍能保持穩定的性能，使得它具有廣泛的應用領域。

高強度：雖然铌的密度較高，但其強度也相對較高，可以滿足許多領域的應用需求。

高純度：铌钯通常采用高純度Nb（99%~99.99%）作為材料，确保其在工業應用中的穩定性和可靠性。

良好的化學穩定性：铌靶具有良好的化學穩定性，不會和其他材料發生反應，并且在長期使用過程中也不會出現晶界擴散等問題。

五、應用及其他注意事項

應用：铌钯廣泛應用于磁性材料、光學膜、電子器件等領域，如磁随機存儲器、磁存儲傳感器、平面顯示器等。

注意事項：在使用和制備铌靶的過程中，需要注意避免與其他金屬或元素等發生反應，以及注意控制好制備過程的溫度和環境條件等細節問題。